1 磁粉探傷設(shè)備應(yīng)能對(duì)試件完成磁化、施加磁粉、提供視察條件及退磁等四道工序。如無(wú)須要，可不帶退磁裝置。
2 探傷裝置應(yīng)得當(dāng)試件的形狀、尺寸、材質(zhì)、外貌狀態(tài)并滿意對(duì)缺陷的檢測(cè)要求。能有用和寧?kù)o地舉行探傷。
3 磁扮裝置有電流法和永世磁鐵法兩種。電流法中又可分成交換、直流、脈動(dòng)電流、打擊電流、旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)等。
4 用電流磁化的裝置，應(yīng)能向試件提供檢測(cè)缺陷所需的磁勢(shì)，切合GB／T 3721所劃定的技能要求。
5 磁軛型或磁極型裝置應(yīng)標(biāo)明在劃定的磁極間隔下的提拔力數(shù)據(jù)，作為權(quán)衡該裝置能向試件輸入須要磁勢(shì)的依據(jù)。電磁鐵磁 軛還必須標(biāo)明電流的種類和頻率。交織磁軛應(yīng)切合JB／T 6870技能要求。
6 濕法中的磁懸液施加裝置，應(yīng)在磁懸液槽內(nèi)設(shè)置攪拌機(jī)構(gòu)，使勻稱彌散著磁粉的磁懸液能穩(wěn)固地施加到試件上去而不影響 已天生的磁痕。
7 干法中的磁粉施加裝置，必須使干燥的磁粉始終呈勻稱疏散狀態(tài)，能穩(wěn)固地把磁粉施加到試件上去而不影響已天生的磁痕。
8 利用熒光磁粉或熒光磁粉磁懸液探傷時(shí)，要接納黑光燈照射裝置，該裝置輻射波長(zhǎng)為320～400nm。在間隔黑光燈380mm的試 件外貌。紫外線輻照度原則上應(yīng)大于800μW／cm2，或按GB／T 5097間接舉行測(cè)定。
9 退磁裝置應(yīng)能憑據(jù)試件的用途將剩磁減小到指定的限度，剩磁感到強(qiáng)度應(yīng)低于0.3mT。
10 探傷裝置須定期校驗(yàn)。一樣通常劃定每年校驗(yàn)一次，包羅對(duì)電流表、計(jì)時(shí)裝置、黑光燈照射裝置的性能確認(rèn)。